• 工作原理核心：基于光學層析和共軛針孔空間濾波。只有當樣品表面某點精確位于物鏡焦平面時，其反射光信號才能高效通過探測針孔。通過垂直掃描并檢測每個像素點的光強峰值，確定其高度。

  
  

• 主要適用表面類型：

  
  

• 漫反射表面：這是其優(yōu)勢領域。例如，未經(jīng)拋光的金屬、陶瓷、噴砂/噴丸表面、涂層、紙張、織物、某些生物組織等。這些表面將入射光向各個方向散射，共聚焦模式能有效收集來自焦平面的散射光，抑制離焦雜光。

  
  

• 高陡坡或粗糙表面：對于側壁角度較大或表面高度變化劇烈的樣品，共聚焦模式通常比傳統(tǒng)干涉法有更好的測量能力，因為它對表面斜率的變化相對不敏感。

  
  

• 不連續(xù)表面或孤立特征：如顆粒、纖維、劃痕邊緣等。

  
  

• 主要特點：

  
  

• 對漫反射表面成像對比度較好。

  
  

• 垂直分辨率較高，能分辨細微的高度變化。

  
  

• 受環(huán)境振動影響相對較小（因為逐點/線掃描）。

  
  

• 對于非常光滑的鏡面，可能因信號過強或反射光無法返回探測器而導致測量困難。

  
  

• 工作原理核心：基于白光干涉的短相干性。只有當樣品光路與參考光路的光程差接近零（在相干長度內(nèi)）時，才會產(chǎn)生清晰的干涉條紋。通過垂直掃描并分析每個像素點干涉信號包絡的峰值位置（或相位），確定其高度。

  
  

• 主要適用表面類型：

  
  

• 光滑的鏡面或半鏡面表面：這是其傳統(tǒng)優(yōu)勢領域。例如，拋光硅片、光學玻璃、光滑金屬表面、薄膜表面等。這些表面能產(chǎn)生清晰的干涉信號。

  
  

• 連續(xù)緩變的表面：表面起伏平緩、連續(xù)。

  
  

• 薄膜與臺階測量：特別適合測量透明薄膜厚度（通過上下表面反射光產(chǎn)生的干涉）和微米/納米級別的臺階高度。

  
  

• 主要特點：

  
  

• 測量速度通常較快，尤其是大面積光滑表面。

  
  

• 具有達到亞納米級別的垂直分辨率潛力。

  
  

• 對光滑表面的微小高度變化非常敏感。

  
  

• 對于粗糙或漫反射表面，干涉條紋對比度會下降甚至消失，導致測量失效或誤差增大。

  
  

• 對環(huán)境振動相對敏感，因為需要穩(wěn)定的干涉條件。

  
  

• 自動模式推薦：基于預覽圖像的表面反射特性分析，軟件可能建議使用哪種模式。

  
  

• 組合掃描：對于某些復雜樣品，不同區(qū)域可能適合不同模式。高級軟件可能允許用戶定義多個測量區(qū)域并分別設置模式。

  
  

• 互補驗證：對于某些中間特性的表面，可以用兩種模式分別測量以交叉驗證結果。

  
  

1. 表面反射特性：鏡面選干涉，漫反射選共聚焦。

   
   

2. 表面粗糙度：非常光滑選干涉，中等至粗糙選共聚焦。

   
   

3. 測量速度要求：快速大面掃描優(yōu)先考慮干涉模式。

   
   

4. 特征類型：測量孤立顆粒、高陡坡多用共聚焦；測量連續(xù)薄膜、微小臺階多用干涉。

   
   

5. 環(huán)境條件：若振動較大，共聚焦模式可能更穩(wěn)定。

   
   

通過理解并善用這兩種測量模式，用戶可以使共聚焦白光干涉輪廓儀S lynx2應對更廣泛的表面測量挑戰(zhàn)，獲取更可靠的二維形貌數(shù)據(jù)。

共聚焦白光干涉輪廓儀S lynx2 測量模式解析