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技術(shù)文章

TECHNICAL ARTICLES

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  • 202512-9
    全面了解白光干涉儀的測(cè)試與應(yīng)用

    在半導(dǎo)體芯片制造車間,工程師正用一臺(tái)儀器掃描晶圓表面,屏幕上的三維形貌圖以納米級(jí)精度還原出微觀結(jié)構(gòu)——這便是白光干涉儀,憑借其非接觸、高精度的測(cè)量能力,成為精密制造領(lǐng)域的“微觀顯微鏡”。一、原理揭秘:短相干光解鎖納米級(jí)分辨率白光干涉儀的核心在于利用白光寬光譜產(chǎn)生的短相干特性。白光由400-700nm連續(xù)光譜組成,相干長度僅2-3微米,當(dāng)參考光與測(cè)量光的光程差接近零時(shí),才會(huì)產(chǎn)生高對(duì)比度干涉條紋。通過壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)參考鏡進(jìn)行垂直掃描,系統(tǒng)記錄每個(gè)像素點(diǎn)光強(qiáng)隨時(shí)間的變化曲線,利用包絡(luò)...

  • 202512-2
    產(chǎn)品推薦 | 從物理極限到數(shù)字自由:澤攸光刻技術(shù)如何在小批量制造中破局

    任何關(guān)于光刻技術(shù)的討論,都繞不開瑞利判據(jù)。這個(gè)源于天文學(xué)家瑞利勛爵的準(zhǔn)則,精準(zhǔn)地定義了投影式光刻系統(tǒng)所能實(shí)現(xiàn)的最小特征尺寸。CD=k1*(λ/NA)這個(gè)簡潔公式揭示了決定光刻分辨率的三大核心要素:波長(λ)、數(shù)值孔徑(NA)和工藝因子(k1)。它如同一座燈塔,為光刻技術(shù)的演進(jìn)指明了三個(gè)方向:縮短波長、增大數(shù)值孔徑以及降低工藝因子。然而,每一條路徑都伴隨著巨大的技術(shù)挑戰(zhàn)和成本投入。當(dāng)特征尺寸不斷逼近光源波長時(shí),光的衍射效應(yīng)愈發(fā)顯著,單純依賴物理參數(shù)的改進(jìn)已顯得力不從心。中工程的...

  • 202511-26
    行業(yè)資訊 | 澤攸科技ZEM掃描電鏡:心衰藥物研究中的“微觀之眼”推動(dòng)治療

    慢性心力衰竭是全球性的健康挑戰(zhàn),高發(fā)病率和高死亡率給無數(shù)家庭帶來沉重負(fù)擔(dān)。盡管現(xiàn)有藥物能一定程度緩解癥狀,但傳統(tǒng)全身給藥方式難以在心臟病變部位維持理想濃度,且易引發(fā)副作用,限制療效突破。近日,一項(xiàng)發(fā)表于《InternationalJournalofPharmacology》的研究為解決這一難題提供了新思路。唐山市工人醫(yī)院團(tuán)隊(duì)創(chuàng)新性地利用介孔納米生物活性玻璃作為藥物載體,負(fù)載心衰治療藥物沙庫巴曲纈沙坦,構(gòu)建了一種新型靶向遞送系統(tǒng)。這一策略旨在提升藥物在心臟部位的濃度,增強(qiáng)治療效...

  • 202511-24
    蔡司EVO系列掃描電鏡標(biāo)準(zhǔn)化操作全流程解析

    作為材料科學(xué)領(lǐng)域的高級(jí)分析工具,蔡司EVO系列掃描電鏡憑借其模塊化設(shè)計(jì)和智能化操作界面,為科研人員提供了從基礎(chǔ)成像到復(fù)雜分析的全流程解決方案。本文系統(tǒng)梳理其操作流程與關(guān)鍵技術(shù)要點(diǎn)。一、開機(jī)準(zhǔn)備與設(shè)備自檢蔡司掃描電鏡啟動(dòng)前需確認(rèn)環(huán)境參數(shù):溫度控制在20-24℃,濕度低于65%,UPS電源供電正常。操作人員需佩戴防靜電手套,避免污染樣品或損壞電子元件。開啟主機(jī)背面空氣開關(guān)后,依次按下Standby和On按鈕,系統(tǒng)進(jìn)入自檢程序。此時(shí)需觀察真空泵運(yùn)行狀態(tài),確保機(jī)械泵與分子泵正常啟動(dòng),...

  • 202511-20
    司特爾金相制樣切割機(jī):性能與用材的精密之道

    在材料科學(xué)研究與工業(yè)質(zhì)檢領(lǐng)域,金相試樣的制備質(zhì)量直接影響顯微分析的準(zhǔn)確性。司特爾作為金相制樣設(shè)備的品牌,其金相制樣切割機(jī)憑借杰出的性能和精心的用材設(shè)計(jì),成為實(shí)驗(yàn)室制備高質(zhì)量試樣的核心工具。一、核心性能解析1.精準(zhǔn)切割能力:司特爾金相制樣切割機(jī)采用高精度無級(jí)變速電機(jī),搭配自適應(yīng)進(jìn)給系統(tǒng),可精準(zhǔn)控制切割速度與力度。針對(duì)不同硬度材料,設(shè)備能自動(dòng)調(diào)節(jié)切割參數(shù),確保切口平整度誤差小于5μm,避免材料組織因切割應(yīng)力而變形。2.高效冷卻系統(tǒng):配備雙通道內(nèi)冷設(shè)計(jì),切割時(shí)通過精密噴嘴將冷卻液(...

  • 202511-20
    精密三維測(cè)量技術(shù)突破,Sensofar為半導(dǎo)體制造注入新動(dòng)能

    在半導(dǎo)體制造工藝快速發(fā)展的今天,精密三維測(cè)量技術(shù)正成為推動(dòng)行業(yè)進(jìn)步的關(guān)鍵力量。近日,一場以"半導(dǎo)體制造中的精密三維測(cè)量技術(shù)"為主題的網(wǎng)絡(luò)研討會(huì),深入探討了該領(lǐng)域的突破與應(yīng)用前景。第三代半導(dǎo)體材料的精密測(cè)量挑戰(zhàn)隨著金剛石、碳化硅和鈣鈦礦等第三代半導(dǎo)體材料的廣泛應(yīng)用,晶圓制造和材料表征面臨著新的技術(shù)要求。通過干涉測(cè)量技術(shù)結(jié)合智能算法,研究人員能夠精準(zhǔn)測(cè)量具有微米級(jí)顆粒和納米級(jí)特征的復(fù)雜形貌,為新材料研發(fā)提供可靠支撐。異構(gòu)集成技術(shù)的創(chuàng)新突破異構(gòu)集成技術(shù)通過將微透鏡、共封裝光學(xué)元件和...

  • 202511-20
    Sensofar 白光干涉儀常見問題排查

    Sensofar白光干涉儀作為精密光學(xué)測(cè)量設(shè)備,使用中易受光學(xué)部件、機(jī)械結(jié)構(gòu)、軟件系統(tǒng)及環(huán)境等因素影響出現(xiàn)故障。以下是其常見問題、成因及對(duì)應(yīng)排查解決辦法,結(jié)合其Sneox等主流系列的特性整理而來:光源相關(guān)問題常見故障:光源亮度不穩(wěn)定、不亮,或4色LED光源(紅、綠、藍(lán)、白)某一色無法點(diǎn)亮,影響干涉條紋形成。排查解決:先檢查電源連接是否牢固,開關(guān)是否正常,若電源無問題,再查看光源連接線有無破損、接觸不良;其采用光纖耦合相關(guān)的光源結(jié)構(gòu),需重點(diǎn)檢查光纖是否折損、脫落;LED光源雖壽...

  • 202511-19
    白光干涉儀S neox:微透鏡陣列表征的精密產(chǎn)品

    微透鏡陣列作為光學(xué)領(lǐng)域的核心元件,由數(shù)百至數(shù)千個(gè)微米級(jí)透鏡單元組成,廣泛應(yīng)用于成像系統(tǒng)、光通信、傳感器等領(lǐng)域。其表面微觀3D輪廓參數(shù)(如曲率半徑、面型誤差、中心厚度等)直接影響光學(xué)性能,而白光干涉儀Sneox憑借其非接觸、高精度、三維成像的獨(dú)特優(yōu)勢(shì),成為微透鏡陣列表征的“黃金標(biāo)準(zhǔn)”。一、亞納米級(jí)精度:解鎖微觀形貌的“密碼”微透鏡陣列的測(cè)量需滿足三大核心需求:高精度三維參數(shù)提取、大面積快速檢測(cè)、非接觸無損測(cè)量。傳統(tǒng)探針式輪廓儀雖精度較高,但接觸式測(cè)量易劃傷表面;激光共聚焦顯微鏡...

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